ความก้าวหน้า 7nm ของ Intel เป็นไปตามแผนที่วางไว้จะมาถึงเร็วกว่าที่คาด

โหนดการผลิต 10nm ของ Intel เดิมทีมีแผนจะเริ่มการผลิตจำนวนมากในช่วงครึ่งหลังของปี 2559 แต่ บริษัท แทบจะไม่ได้ใช้งานในทุกวันนี้ ปัจจุบันกระบวนการดังกล่าวใช้ในการผลิต CPU เพียงหยิบมือเดียวโดยมีการผลิตในปริมาณมากซึ่งกำหนดไว้ในปี 2019 Intel ได้รับความเดือดร้อนจากกระบวนการ 10nm ล่าช้าหลายปีซึ่งมีผลกระทบอย่างมีนัยสำคัญต่อสายการผลิต ผลิตภัณฑ์ของ บริษัท และธุรกิจ อย่างไรก็ตาม 10nm ของ Intel อาจเป็นโหนดอายุสั้นเนื่องจากเทคโนโลยี 7nm ของ บริษัท กำลังอยู่ในช่วงที่จะเปิดตัวตามตารางเวลาเดิม

Intel มีปัญหาน้อยลงในการพัฒนา 7nm ด้วย EUV

Intel กล่าวว่ามันตั้งเป้าความหนาแน่นของทรานซิสเตอร์ที่ก้าวร้าวมากเกินไปสำหรับกระบวนการผลิต 10nm ซึ่งเป็นสาเหตุที่การพัฒนามีปัญหา เทคโนโลยีการผลิต 10nm ของ Intel ใช้เฉพาะการพิมพ์หินรังสีอุลตร้าไวโอเลตลึก (DUVL) โดยเลเซอร์ทำงานที่ความยาวคลื่น 193nm เพื่อให้สามารถใช้งานคุณสมบัติขนาดละเอียดที่ Intel กำหนดไว้เพื่อให้บรรลุที่ 10nm กระบวนการนั้นจำเป็นต้องใช้การทำหลายรูปแบบเป็นจำนวนมาก จาก Intel ระบุว่าปัญหาหนึ่งที่เกิดขึ้นกับกระบวนการนี้คือการใช้งานหลายรูปแบบอย่างเข้มข้น

เราแนะนำให้อ่านบทความของเราเกี่ยวกับ โปรเซสเซอร์ ARM คืออะไรและทำงานอย่างไร

ในทางตรงกันข้ามเทคโนโลยีการผลิต 7nm ของ Intel จะใช้การพิมพ์หินอุลตร้าไวโอเลตอัลตราไวโอเลต (EUVL) กับความยาวคลื่นเลเซอร์ 13.5nm สำหรับเลเยอร์ที่เลือก ลดการใช้หลายลวดลาย สำหรับชั้นโลหะบางประเภทและดังนั้น ลดความซับซ้อนของเวลาในการผลิตและลดรอบการผลิต ดูเหมือนว่ากระบวนการผลิต 7nm ได้รับการพัฒนาแยกต่างหากจากเทคโนโลยี 10nm และโดยอุปกรณ์ที่แตกต่างกัน เป็นผลให้การพัฒนาอยู่ในระหว่างดำเนินการและคาดว่าจะเข้าสู่ระบบ HVM ตามแผนงานของ Intel ที่ไม่ได้แจ้งเตือน

Intel ยืนยันอีกครั้งว่า บริษัท วางแผนที่จะเริ่มการผลิต HVM ของซีพียูของลูกค้าโดยใช้เทคโนโลยีการผลิต 10nm ในปี 2019 และผลิตภัณฑ์ศูนย์ข้อมูลจะตามมาในไม่ช้า ดังกล่าว เป็นที่ชัดเจนว่า Intel ไม่ได้ข้ามผลิตภัณฑ์ 10nm ที่ประกาศไปแล้ว แต่ก็หมายความว่าผลิตภัณฑ์ 7nm นั้นอาจเข้าสู่ตลาดได้เร็วกว่าที่เราคาดไว้

แบบอักษร Techpowerup